高纯锗谱仪
HA4200-HPGe

高纯锗谱仪

高纯锗谱仪是一款实验室高纯锗γ 能谱测量系统,配备高纯度高品质锗晶体、更先进的前置放大器、辐射屏蔽性能更高的低本底铅室、稳定性更好的数字多道分析器以及低温冷却系统,从而获得更好的能量分辨率和更低的环境干扰。 配套功能齐全的γ 能谱分析软件,可以更准确的测量和分析样品的放射性特性。
产品详情

产品概述

高纯锗谱仪是一款实验室高纯锗γ 能谱测量系统,配备高纯度高品质锗晶体、更先进的前置放大器、辐射屏蔽性能更高的低本底铅室、稳定性更好的数字多道分析器以及低温冷却系统,从而获得更好的能量分辨率和更低的环境干扰。 配套功能齐全的γ 能谱分析软件,可以更准确的测量和分析样品的放射性特性。


应用领域

该产品用于核电、低放射性水平样品(环境样品、生物样品、食品)放射性含量测量、检验检疫、生物医学、天体物理与化学、地质、法学、考古学、冶金和材料科学等诸多科学与社会领域。


功能特点

  1. 高纯锗探测器:可选配P型同轴探测器、P型宽能型同轴探测器(探测效率从10%到160%可选),井型探测器、平板型探测器(探测效率从15%到60%可选)等,低仪器背景干扰、出色的峰对称性和高分辨率;

  2. 低本底铅室:铅室本底计数率<2cps(50keV~2MeV,50%探测效率),铅室采用顶部平移开门方式;

  3. 数字化多道:可选配16k、32k;

  4. γ 能谱分析软件:全中文操作界面与操作手册,集谱控制、获取、分析、分析报告、质量控制和审计追踪功能于一体,内置可编辑核素库,可以自动或手动进行能谱分析,实现核素识别、活度计算功能;

  5. 无源效率刻度软件:提供高速创建几何条件和错误识别功能,在没有标准源的情况下能对点状、柱状、面状和马林杯样品进行效率刻度,计算精度≤3%;

  6. 制冷系统:可选配液氮制冷或液氮回凝制冷装置;

  7. 激光三维扫描建模:基于激光三维扫描仪,可进行激光三维扫描建模,并将建模结果导入无源效率刻度软件进行效率刻度。


系统配置

高纯锗探测器、铅室、数字化多道、γ 能谱分析软件、无源效率刻度软件、制冷系统、激光三维扫描仪(选配)。


技术参数


以常用P 型宽能型50% 效率高纯锗探测器为例

能量范围

5keV~10MeV

探测效率

≥ 50%

输入窗口材料

铍或碳纤维

能量分辨率

对122 keV 峰(57Co):≤ 900 eV ;
   对1.33 MeV 峰(60Co):≤ 1.9 keV

峰康比

64:1

峰形

FW0.1M/FWHM:1.9 ; FW0.02M/FWHM:2.65


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